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热浸镀提抽过程中镀层厚度控制模型研究

STUDY FOR THE CONTROLLING MODEL OF THE MEMBRANE THICKNESS IN HOT DIPPING PROCESS

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【作者】 高峰； 郑雯；

【Author】 Gao Feng Zheng Wen ( College of Environment Chemistry,Shandong University of Technology,250061,Jinan,China )

【机构】 山东工业大学环化学院!250061； 济南；

【摘要】 利用简化的动态模型过程 ,推导了热浸镀条件下的膜层控制方程 ,并通过实验手段对此方程作了验证 .结果表明 ,该方程作为工程快速估算是可行的 .

【Abstract】 The equation for the membrane thickness controlling in hot-dipping process was expressed using abridged kinetic model process.The equation was demonstrated by experiment.The results showed that it was feasible for the fast technic evaluation using the equation.

【关键词】 热浸镀； 膜层厚度； 提抽速度； 表面张力； 动态控制方；
【Key words】 hot-dipping； membrane thickness； extractive velocity； surficial force； kinetic controlling equation；
  • 【文献出处】 山东师大学报(自然科学版) ,Journal of Shandong Normal University (Natural Science) , 编辑部邮箱 ,2001年01期
  • 【分类号】TG174
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