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等离子体基高温离子注入研究进展

Progress in Research of Plasma-Based Ion Implantation at Elevated Temperature

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【作者】 孙跃陈继新夏立芳刘鑫贵徐淑艳

【Author】 SUN Yue, CHEN Jixin, XIA Lifang, LIU Xingui, XU Shuyan (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)

【机构】 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院!哈尔滨150001

【摘要】 综述了等离子体基高温离子注入的发展及应用情况 ,介绍了由于高温注入中辐照增强扩散和热扩散的共同作用 ,注入层成分、组织结构、力学性能和抗腐蚀性能随温度提高发生的变化。并对今后的发展趋势作了预测。

【Abstract】 The developments and applications of plasma based ion implantation (PBII) at elevated temperature are reviewed. Because of radiation and thermal enhancement to diffusion, the composition, structure, mechanical and corrosion properties of the implanted layer change dramatically with increasing temperature. Regularities obtained by far are summarized. And further research efforts are also briefly prospected.

  • 【文献出处】 金属热处理学报 ,Transactions of Metal Heat Treatment , 编辑部邮箱 ,2001年03期
  • 【分类号】TG174.444
  • 【被引频次】11
  • 【下载频次】212
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