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YBCO外延薄膜的afterglow plasma溅射生长

YBCO thin film growth by afterglow pl asma sputtering

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【作者】 刘兴钊李言荣陶伯万罗安

【Author】 LIU Xing -zhao,LI Yan -rong,TAO Bai -wan,LUO An(University of Electronic Science an d Technology,Chengdu 610054,China)

【机构】 电子科技大学信息材料工程学院电子科技大学信息材料工程学院 成都610054成都610054成都610054

【摘要】 Y1Ba2Cu3O7-δ(YBCO)高温超导薄膜溅射生长所遇到的主要问题是负氧离子的反溅射效应。采用afterglowplasma溅射生长YBCO薄膜,有效地抑制了负氧离子的反溅射效应,从而生长出了超导性质优异的YBCO单晶薄膜,薄膜的临界电流密度JC(77K,0T)=7.6×106A/cm2,薄膜的微波表面电阻Rs(77K,10GHz)=206μΩ,薄膜(005)峰摇摆曲线半高宽(FWHM)为0.120。

【Abstract】 The key problem encountered in YBCO thin film growth by sputtering is the negative ions bombarding the growing films.To min imize the negative ions bombardment effect ,YBCO thin film growth was experimented by afterglo w plasma process.Single crystal YBCO thin films with excellent superconducting transition properties were prepared by afterglow plasma sputtering.The current density of the films at 77K is 7.6×106A /cm2for 1μV.The microwave surface resistance of the films at(77K,10GHz )is 206μΩ.The full width at half maximum(FWHM)value of the rocking curve around(005)diffraction peak,which is 0.12 o,is obtained.

【关键词】 溅射薄膜YBCO高温超导
【Key words】 deposition processsputterings uperconductivityYBCO thin film
  • 【文献出处】 功能材料与器件学报 ,Journal of Functional Materials and Devices , 编辑部邮箱 ,2001年04期
  • 【分类号】O484.1
  • 【下载频次】81
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