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微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术

Microfabrication of silicon nitride film applied in microsensor

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【Author】 JIN Peng 1, TAN Jiu-bin 1, LIU Yan 2 (1.Dept.of Aut Meas. and Control Engin.,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China; 2.Heilongjiang Radio and TV University, Harbin 150080,China)

【机构】哈尔滨工业大学自动化测试及控制系!黑龙江哈尔滨150001；黑龙江广播电视大学!黑龙江哈尔滨150080；

【摘要】简要介绍了基于磁控射频溅射技术的Si3 N4 薄膜沉积技术及Si3 N4 薄膜基于剥离 (lift-off)技术的微加工技术。实验结果表明该技术适用于微型传感器及MEMS中绝缘薄膜的加工更多还原

【Abstract】 The depositon of silicon nitride film based on RF magnetron-sputtering and the micorfabrication of silicon nitride film based on lift-off technique are described in this article. The experiment result showed that it is an effective method of Si 3N 4 film’s fabrication for microsensor and MEMS purpose.更多还原

【关键词】微型传感器；微型机电系统；氮化硅薄膜；磁控射频溅射；剥离技术；微加工技术；
【Key words】 microsensor； MEMS； silicon nitride film； R.F. magnetron-sputtering； lift-off technology； microfabrication technology；

【文献出处】传感器技术 ,Journal of Transducer Technology , 编辑部邮箱 ,2001年03期

【分类号】TP212
【被引频次】3
【下载频次】186

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