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等离子处理时TiN-MoS_x/Ti涂层中S大量刻蚀的XPS分析

XPS Investigation of Largely Etching of S from the TiN-MoS_x/Ti Composite Coating Under Plasma Treatments

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【作者】 荆阳周兰英庞思勤

【Author】 JING Yang, ZHOU Lan ying, PANG Si qing (School of Mechanical Engineering and Automation, Beijing Institute of Technology, Beijing100081, China)

【机构】 北京理工大学机械工程与自动化学院北京理工大学机械工程与自动化学院 北京100081北京100081北京100081

【摘要】 采用 XPS对 Ti N- Mo Sx/Ti复合膜表面 S被 Ar+ 大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究 .长时间离子轰击后复合膜表层的化学计量值 x从最初的 2 .0 3降至 1.2 5 ,Mo3d5/ 2 的结合能从 2 31.73e V相应减小到 2 31.0 7e V.刻蚀 5 min后的涂层表面为深黑色的致密结构 ,摩擦学性能优异 ;而刻蚀 15 min后的涂层表面为浅灰色的疏松结构 ,且摩擦磨损性能也大幅下降

【Abstract】 The changes of chemical components and tribological properties of TiN MoS x /Ti composite coatings caused by largely ion etching S from its surface are studied by XPS. After long time ion etching, the surface Mo/S ratio of the composite coatings decreases from 2 03 to 1 25 with a concomitant reduction in the Mo 3d 5/2 binding energy from 231 73 eV to 231 07 eV. After 5 minutes ion etching, the surface of coatings presents a deep black colored compact structure with excellent tribological properties; but after 15 minutes ion etching, the surface of the coating presents a french grey colored loose structure with greatly decreased tribological properties.

【基金】 国家“8 6 3”计划项目
  • 【文献出处】 北京理工大学学报 ,Journal of Beijing Institute of Technology , 编辑部邮箱 ,2001年06期
  • 【分类号】TG174.4
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】127
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