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GaAs MESFET中的背栅效应

Backgating effect in GaAs MESFETs

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【作者】 郭惠杨瑞霞付浚刘力锋

【Author】 GUO Hui,YANG Rui xia,FU Jun,LIU Li feng (Hebei University of Technology,Tianjin 300130,China)

【机构】 河北工业大学电气信息学院河北工业大学电气信息学院 天津300130天津300130天津300130

【摘要】 随着集成电路集成度的提高 ,器件间距不断减小 ,在 Ga As MESFET中产生了一种被称为背栅效应的有害寄生效应。由于器件间距越来越小 ,某一个器件的电极可能就是另一个器件的背栅 ,背栅效应影响了集成电路集成度的提高 ,因此背栅效应在国内外引起了重视。本文介绍了背栅效应及其可能的起因

【Abstract】 As the advance in integration level of GaAs ICs,GaAs MESFETs can exhibit a pheno mena that the drain current decreases when a negative voltage is applied to the substrate.The phenomena is termed backgating effect.The backgating effect impedes the advance in integration level of GaAs ICs.So backgating effect receives considerable attention.This paper introduces the backgating effect and its origin.

  • 【文献出处】 半导体情报 ,Semiconductor Information , 编辑部邮箱 ,2001年05期
  • 【分类号】TN386.1
  • 【被引频次】2
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