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硅单晶材料发展动态

Development and Tendency of Silicon Crystal Material

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【作者】 邓志杰

【Author】 Deng Zhijie (General Research Institute for Nonferous Metals,Beijing, 100088,China)

【机构】 北京有色金属研究总院!北京100088

【摘要】 概述了现代特大规模集成电路对硅单晶片的质量要求、直拉硅单晶生长工艺及晶片加工技术研究进展和硅单晶材料市场现状及发展趋势。

【Abstract】 The quality requirements on Si wafer for modern ULSI,research progress on CZ Si crystal growth technology and wafer processing,the market situation and prospect were outlined.

【关键词】 直拉单晶缺陷完美硅快速拉制晶片加工
【Key words】 CZ technologyPerfect SiFast pulledDefectWafer processing
  • 【文献出处】 稀有金属 ,CHINESE JOURNAL OF RARE METALS , 编辑部邮箱 ,2000年05期
  • 【分类号】F426
  • 【被引频次】16
  • 【下载频次】605
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