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等离子辅助成膜技术

Plasma Ion Assisted Deposition Technique

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【Author】 L in Yongchang1 Yiu Dawei2 L i Xiaoqian2 Shen Lixin3 Zhen Peiyu3 1 (Beijing Institute of Technology,Beijing10 0 0 81,China) 2 (Center of Space Science,Academia Sinica,Beijing 10 0 0 81) 3(Beijing Instrument Factory,Beijing 10 0 0 2 2 )

【机构】北京理工大学!北京100081；中国科学院空间中心!北京100081；北京仪器厂!北京100022；

【摘要】等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成膜质量 ,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。更多还原

【Abstract】 Plasma ion assisted deposition is a powerful technology for the production of optical coatings.This paper mainly discusses the performance specification of plasma source,technology and quality of Ti O2 coatings and the technology for antireflection coatings deposited with plasma IAD.更多还原

【关键词】光学膜；离子辅助沉积；等离子辅助沉积；
【Key words】 Optical coatings Ion assisted deposition Plasma assisted deposition；

【基金】国家自然科学基金项目

【文献出处】仪器仪表学报 ,CHINESE JOURNAL OF SCIENTIFIC INSTRUMENT , 编辑部邮箱 ,2000年05期

【分类号】TB43
【被引频次】6
【下载频次】100

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