节点文献

掺杂对CdSe-TFT稳定性影响的研究

Effect of Dopant on the Stability of CdSe TFT Performance

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 景玉梅叶如华李志明李菊生

【Author】 JING Yu mei, YE Ru hua, LI Zhi ming, LI Ju sheng (Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130021, China)

【机构】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所!吉林长春130021

【摘要】 利用蒸发和溅射工艺 ,研究了 Cd Se- TFT的制作 ,特别对掺 In的 Cd Se- TFT的电性能进行了研究。实验中观察到 Cd Se掺 In后 ,TFT的 I - V特性明显得到改善 ,得到了性能稳定的 TFT器件。利用半导体掺杂理论对此现象进行了解释。

【Abstract】 CdSe TFT was prepared with evaporation and sputtering processes. It was observed that the I-V characteristics of TFT were improved when In was doped into CdSe. The result was explained by the dopant theory of semiconductor.

【关键词】 CdSe薄膜晶体管掺杂
【Key words】 CdSethin film transistordopant
【基金】 国家“8 63”资助项目!( 71 5-0 0 3 -0 0 70 )
  • 【文献出处】 液晶与显示 ,CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TN321.5
  • 【下载频次】77
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络