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LIGA技术X光深层光刻工艺研究

Study on X-Ray Deep Lithography Process in LIGA Technique

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【作者】 陈迪； 李昌敏； 章吉良； 伊福廷； 周狄； 郭晓芸；

【Author】 CHEN DI i,LI Chang?min 1,ZHANG Ji? liang 1,YI Fu?ting 2,ZHOU Di 1,GUO Xiao?yun 1 (Information Storage Research Center,Shanghai Jiao Tong University, State Key Laboratory for Micro/Nano Fabrication Technology,The State Education Commission O

【机构】 上海交通大学信息存储研究中心微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术国家教委部门开放研究实验室!上海200030； 上海交通大学信息存储研究中心微米/；

【摘要】 通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。

【Abstract】 X?ray deep lithography process was carried out in 3W1 beam line of Institute for high energy physics.100μm thick metallic microstructures with perpendicular sidewall were fabricated.The microstructures have an apspect ratio of 20.It demonstrate that this beam line is suitable for LIGA process.

【关键词】 LIGA技术； X光深层光刻；
【Key words】 LIGA technique； X-ray deep lithography；
【基金】 上海市教委曙光计划资助项目!(97SG10 )
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,MICROFABRICATION TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,2000年02期
  • 【分类号】TN405
  • 【被引频次】15
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