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氟化物激光晶体Nd3+∶LiYF4的坩埚下降法生长

Growth of Fluoride Laser Crystal Nd3+∶LiYF4 by Bridgman Method

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【作者】 陈红兵范世徐家跃费一汀孙仁英王文

【Author】 CHEN Hong bing, FAN Shi ji, XU Jia yue, FEI Yi ting, SUN Ren ying, WANG Wen (Shanghai Institute of Ceramics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 200050,China)

【机构】 中国科学院上海硅酸盐研究所!上海200050

【摘要】 晶体Nd3 +∶LiYF4是一种优良的LD泵浦激光工作物质 ,该晶体主要采用提拉法生长 ,迄今尚未见采用坩埚下降法生长该晶体的研究报道。本研究组进行了氟化物激光晶体的坩埚下降法生长工艺的研究 ,获得了大尺寸的激光晶体Nd3 +∶LiYF4。本实验采用氟化物试剂LiF(CP)、YF3 (AR)、NdF3 (AR)为初始原料 ,并用高温氟化法对氟化物原料进行脱水处理 ,以获得能满足晶体生长需要的无水氟化物原料。根据体系相平衡关系 ,晶体配合料的最佳组成应为LiF∶YF3 =5 1 .5∶48.5 ,同时考虑到在晶体Nd3 +∶LiYF4中Nd3 +是通过替代Y3 +而进入晶格的 ,确定按化学式Li5 1.5 Y47.5 Nd1.0 F4所示组成配制晶体配料 ,其中激活离子Nd3 +的掺杂浓度为 1mol%。在装填坩埚之前 ,将配料再次进行氟化处理 ,并烧结成多晶料。选用铂坩埚的尺寸为2 8× 2 5 0mm ,将籽晶放置于坩埚下端并填装配料后 ,焊接坩埚两端以隔绝空气 ,使晶体生长在密闭条件下进行。该晶体生长所用的坩埚下降生长炉采用电阻加热和铂 铂铑热电偶测温 ,控制炉温 92 0~95 0℃ ,生长体系的固液界面温度为 81 9℃左右 ,界面的温度梯度为 2 0~ 30℃ ,坩埚下降速度为0 .4~ 0 .8mm/h。在上述条件下已生长出尺寸达2 5mm× 6 0mm的透明、浅紫色、无散射的Nd3 +∶LiYF4晶体。

  • 【文献出处】 人工晶体学报 ,JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS , 编辑部邮箱 ,2000年S1期
  • 【分类号】O78
  • 【被引频次】2
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