用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究

【摘要】 用多孔氧化铝（ＡＡＯ）模板(孔径约 ２５０ ｎｍ，孔密度约 ５．３×１０^８ｃｍ^－２，厚度约 ６０μｍ)进行化学气相沉积（ＣＶＤ），成功地制备出大面积高度取向的碳纳米管有序阵列膜．用透射电子显微镜（ＴＥＭ）和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）观察了阵列膜的表面形貌和碳纳米管的结构．发现碳纳米管的长度和管径取决于ＡＡＯ模板的厚度和孔径，碳纳米管的生长特性与模板的结构、催化剂颗粒、反应气体热解温度、流量比例以及沉积时间等因素有关．该方法工艺简便，可使碳纳米管的结构均匀一致，排列分立有序，形成一种有用的碳纳米管自组装有序阵列复合结构，且成本低，能实现大面积生长，非常利于碳纳米管基础与应用研究．更多还原