节点文献

超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展

Progress of Aqueous Solution Cleaning Technology for Silicon Wafer in VLSI Circuit Fabrication

推荐 CAJ下载
PDF下载
不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【Author】 Zhang Shuyong\ Guo Yonglang (College of Chemistry, Shandong University, Jinan 250100, China) Cao Baoceng\ Yu Xinhao (National Research and Promotion Center of Electronic Device Cleaning Technology and Institution of Optoelectronic Materials and De

【机构】山东大学化学学院!济南250100；山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心!济南250100；

【摘要】本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现状，并对技术的未来发展进行了展望。更多还原

【Abstract】 The progress of the aqueous solution cleaning technology for silicon wafer in very large scale integrated circuit fabrication is reviewed.The future of the aqueous solution cleaning technology is discussed as well.\;更多还原

【关键词】集成电路；硅片；溶液清洗；
【Key words】 integrated circuits； silicon wafers； aqueous solution cleaning.；

【文献出处】化学进展 ,PROGRESS IN CHEMISTRY , 编辑部邮箱 ,2000年01期

【分类号】TN47
【被引频次】14
【下载频次】436

知网节下载

节点文献中：

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络

节点文献