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PMMA薄膜的AFM纳米压痕实验研究

Nano-level Indentation Hardness Test of PMMS Film with AFM

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【作者】 王静赵冰顾宁沈浩瀛朱纪军朱健

【Author】 Zhu Ji-jun; Wang Jing; Zhao Bing, et al. (1.Southeastern University, Nanjing 210096 2.Semiconductor Institute of Ministry of Electronics Industry, Nanjing 210016)

【机构】 东南大学分子与生物分子电子学开放实验室!南京210096电子部半导体研究所!南京210016电子部半导体研究所!南京21

【摘要】 研究了采用商用的 AFM对PMMA进行纳米压痕试验,测定 PMMA的力曲线与压痕深度,探讨压痕形成机理和工艺参数的影响,为PMMA的实际应用提供了力学基础。

【Abstract】 The nano-level indentation hardness test of the PMMA film with an AFM (Atomic Force Microscope) has been implemented. The measurements of force curve and indentation depth of the PMMA film, and the discussions on the indentation forming mechanism and the influence of technological parameters have provided a mechanical basis for the application of PMMA films into practice.

【关键词】 原子力显微镜(AFM)PMMA显微硬度
【Key words】 AFMPMMAmicrohardness
【基金】 江苏省自然科学基金资助!BK99006
  • 【文献出处】 航空精密制造技术 ,AVIATION PRECISION MANUFACTURING TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,2000年02期
  • 【分类号】V261
  • 【被引频次】2
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