节点文献

Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究

Study of the property of Ge films and APD of Ge/GaAs

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 杨茹李国辉仁永玲阎凤章朱红清

【Author】 YANG Ru, LI Guo- hui, REN Yong- ling, YAN Feng- zhang, ZHU Hong- qing (Institute of Low- energy Nuclear Physics Beijing Normal University, Beijing 100875, China)

【机构】 北京师范大学低能核物理所!北京市辐射中心北京100875

【摘要】 研究了一种光纤通讯用光电探测器。在GaAs上蒸镀800nm的Ge,并在此材料基础上提出了一种吸收倍增分离的雪崩二极管(SAM-APD)的结构设计,采用GaAs作为倍增区,Ge作为吸收区。在此结构上初步制作的二极管正向开启电压为0.2~0.3V,反向击穿电压为2.5V,漏电不明显,p-n结特性良好。

【Abstract】 This work want to fabricate a photodiode used for optical- fiber- transmission system. 800nm Ge was deposited on n type GaAs and a SAM- APD was put forword in this material. GaAs was used as avalanche region , Ge was used as absorbent region .The diode was made on this material , Its positive volage is 0.2- 0.3 V ,opposive volage is 2.5 V . The leak current can’t be observed , the property of p- n junction is well .

【基金】 北京市基金!4992004
  • 【文献出处】 功能材料与器件学报 ,JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TN304
  • 【下载频次】66
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络