氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响-中国学术期刊网络出版总库

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氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响

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【英文篇名】	Effects of Oxygen Pressure and Substrate Temperature on ZnO∶Al Film by Pulsed Laser Deposition
【下载频次】	★★★☆
【作者】	葛水兵; 程珊华; 宁兆元; 沈明荣; 甘肇强; 周咏东; 褚君浩;
【英文作者】	GE Shuibing 1; CHENG Shanhua 1; NING Zhaoyuan 1; SHEN Mingraong 1; GAN Zhaoqiang 1; ZHOU Yongdong 1; CHU Junhao 2 (1.Films Material Laboratory of Suzhou University; Suzhou; 215006; China; 2.Shanghai Institute of Technical Physics; Chinese Academy of Scie;
【作者单位】	苏州大学薄膜材料实验室; 中国科学院上海技术物理研究所;
【文献出处】	功能材料 , JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS, 编辑部邮箱 2000年 S1期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊中国期刊方阵 CJFD收录刊
【中文关键词】	脉冲激光沉积; ZnO膜; 基片温度; 氧分压强;
【英文关键词】	pulsed laser deposition; zinc oxide films; substrate temperature; oxygen pressure;
【摘要】	利用脉冲激光法制备了ZnO∶Al透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :基片温度、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。从电学分析看出 :基片温度从 2 0 0℃升到 30 0℃过程中 ,膜的载流子浓度、透光率和光隙能相应增大。在氧分压强为0Pa、基片温度为 4 0 0℃下沉积的膜 ,其电阻率具有较低值 ,且在可见光区其透光率约为 90 %。
【英文摘要】	In this paper,the effects of oxygen pressure and substrate temperature on the resistivity and optical transmittance of ZnO∶Al films by pulsed laser deposition have been investigated.The properties of the films have been analysed through Hall effect and X-ray diffraction.From electrical and optical analysis we observed the carrier concentration,optical transmittance and optical energy gap increased when the deposition temperature is raised from 200℃ to 400℃.The film prepared at 400℃ has a lower resistivity a...
【分类号】	TN304
【正文快照】	1　引　言ＺｎＯ∶Ａｌ膜是一种透明导电膜,其在可见光范围具有较高的透射率,在高温条件下,其成分不易与氢发生互扩散,因此它在活性氢和氢等离子体环境中化学稳定性高,不易使太阳能电池材料活性降低;并且其材料来源丰富、价格便宜。因而ＺｎＯ∶Ａｌ膜在太阳能电池、液晶显示、

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