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偏压对金刚石薄膜选择性成核和生长影响的研究

Influence of the Biasonthe Selective Nucleation&Growth of Diamond Thin Films

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【作者】 张文广； 夏义本； 居建华； 王林军；

【Author】 ZHANGWenguang ,XIAYiben ,JUJianhua,WANGLinjun (DepartmentofInorganicMaterials,CollegeofMaterialsScience&EngineeringShanghaiUniversity ,Shanghai,2 0 1 80 0 ,China)

【机构】 上海大学材料科学与工程学院无机材料系!上海201800；

【摘要】 利用偏压增强MPCVD法成功地实现了金刚石薄膜在附有SiO2 掩膜图形的镜面抛光的Si( 1 0 0 )上的选择性织构生长 ,列举了最佳偏压成核与选择性生长条件 ,SEM和Raman光谱对所得样品进行了表征 ,并对偏压对选择性成核和生长的影响机制进行了探讨。

【Abstract】 textureddiamondthinfilmonamirror - polishedSi( 1 0 0 )substratewithpatterninghasbeenachievedbybias-enhanced MPCVD .Theoptimizednucleationandgrowthconditionhasbeenconcluded .ThefilmhasbeencharacterizedbySEMandRamanspec trum .Theinfluenceofthebiasontheselectivenucleation& growthofdiamondthinfilmhasbeendiscussedindetail.

【关键词】 金刚石薄膜； 偏压形核； 选择性生长；
【Key words】 diamondthinfilms； biasednucleation； selectivegrowth；
  • 【文献出处】 功能材料 ,JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS , 编辑部邮箱 ,2000年05期
  • 【分类号】TN304
  • 【被引频次】7
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