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Gd3Ga5O12:Ag薄膜电致发光浓度和退火温度特性的研究

Investigation on Ag Concentration and Post-depositi on Annealing of Gd3Ga5O12 Thin Film Electroluminescence

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【作者】 徐征许秀来陈晓红章婷申德振

【Author】 XU Zheng 1,2 , XU Xiu-lai 1,2,3 , CHEN Xiao-ho ng 1,2,3 , ZHANG Ting 1, SHEN De-zhen 2 1 (Institute of Optoelectronic Technology,Northern Jiaotong U niversity,Beijing 100044) 2 (Laboratory of Excited State Processes,Changchun Institut

【机构】 北方交通大学光电子技术研究所!北京100044北方交通大学光?

【摘要】 本文研究了 Ag+的浓度对 Gd3Ga5O12 薄膜光致发光和电致发光的影响。当 Ag+的浓度达到 0 .2at% ,薄膜的光致发光发生很强的淬灭 ,但是电致发光的淬灭浓度却达 1at%。通过对不同浓度的薄膜样品的吸收光谱的测量 ,发现随着 Ag+的浓度的升高 ,吸收边发生红移。由于 Gd3Ga5O12 :Ag薄膜电致发光有一部分是属于带间激发 ,所以电致发光的淬灭浓度要比光致发光高。Gd3Ga5 O12 :Ag薄膜的退火有助于提高晶格的完整性、光致发光及电致发光的强度。

【Abstract】 We have investigated the dependence on various Ag + concentration for photoluminescence (PL) and electroluminescence (EL ) of Gd 3Ga 5O 12 :Ag thin film,respectively.A rapid quenc hing of PL is observed above 0.2 at% of Ag concentration due to lattice defects and impurity atoms,however,the optimal concentration of Ag + in the EL efficiency is about 1 at%.The lattice absorption edge is red shift with increasing of Ag co ncentration.Pos t-deposition annealing greatly has reduced the lattice imperfections,improved t he PL and EL intensity.The best luminance of the EL devices annealed at 450 ℃ i s about 20 cd/m 2 when driven at 5 000 Hz.

【关键词】 Gd3Ga5O12:Ag薄膜电致发光光致发光浓度淬灭
【Key words】 Gd3Ga5O12 :AgP LTFELconcentration quenching
【基金】 国家“八六三”计划资助项目!( 71 5 - 0 0 82 );教育部博士点基金 ;国家自然科学基金!( 1 99740 0 2 );中国科学院激发态物理开
  • 【文献出处】 光电子·激光 ,Journal of Optoelectronics.laser , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TN304
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】37
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