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PDP中的新型保护膜

New Type Protecting Film in the PDP

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【作者】 贾正根；

【Author】 Jia Zhenggen(Nanjing Electronic Devices Institute, Nanjing, 210016)

【机构】 南京电子器件研究所!南京； 210016；

【摘要】 主要介绍PDP中的MgO保护膜及各种制造方法，并对新型MgAl2O3保护膜作了简单介绍。

【Abstract】 Both new type protecting films in the PDP and their new forming methods are introduced in this paper.

【关键词】 保护膜； 次级电子发射； 化学溶液沉积法； 透过率； 着火电压；
【Key words】 protecting film； secondary electron emission； chemical solution deposition； transmission coefficient； firing voltage；
  • 【文献出处】 光电子技术 ,OPTOELECFRONIC TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,2000年02期
  • 【分类号】TN304
  • 【被引频次】1
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