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二元光栅照明对光刻系统成象特性的影响

The Influence of Binary Grating Illumination on Imaging Property of Photolithographic System

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【作者】 罗先刚姚汉民陈旭南冯伯儒

【Author】 LUO Xian gang,YAO Han min,CHEN Xu nan,FENG Bo ru (State Key Laboratory of Optical Technology for Microfabrication,Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences,Chengdu 610209,China)

【机构】 中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国家重点实验室!四川成都610209中国科学院光电所技术研究微细加工光学技术国

【摘要】 针对光刻系统分辨力和焦深的矛盾 ,详细研究了二元光栅照明对硅片上光强以及对光刻系统传输频率的影响 .结果表明 ,二元光栅照明可显著提高光强的对比度 ,改善成象系统的频率传递函数 ,是一种比较理想的离轴照明技术。

【Abstract】 In view of the contradiction between the resolution and focal depth of the photolithographic system,the influence of binary grating illumination on light intensity of the wafer and transmission frequency of the photolithographic system are studied in detail.The results show that the contrast of light intensity and the frequency transfer function of the imaging system can be obviously improved by binary grating illumination.It is an ideal off axis illumination technique.

【基金】 国家自然科学基金资助项目! ( 698760 41)
  • 【文献出处】 光电工程 ,OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】107
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