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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定钢铁中微量硅

Determination of Microamount of Silicon in Steel by Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometry

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【作者】 龚静张文莉邱德仁杨芃原胡克王琥游俊富

【Author】 Gong Jing, Zhang Wenli, Qiu Deren, Yang Pengyuan, Hu Ke (Department of Chemistry, Fudan University, Shanghai 200433) Wang Hu, You Junfu (Shanghai Institute of Metrology Testing Techniques, Shanghai 200233)

【机构】 复旦大学化学系!上海 200433上海市计量测试技术研究所!上海 200233

【摘要】 在综述文献和谱线表数据的基础上,实验研究了ICP-AES法测定钢铁中硅的分析线。基体匹配得标样经校正后,Si212.412 nm和Si251.612 nm分析线测定钢铁中硅的检出限达0.0006%,比现行国家标准方法改善约两个数量级。

【Abstract】 Based on reviewing references and wavelength tables, experimental investigation of Si lines for the determination of Si in steel is reported. Calibration was made under conditions of matrix match and blank correction. Limit of detection is 6 x 10-4 % for Si 212.412 um and Si 251. 612 um and is two orders of magnitude betten than the current national standard methods.

  • 【文献出处】 分析化学 ,Chinese Journal of Analytieal Chemistry , 编辑部邮箱 ,2000年08期
  • 【分类号】O657.3
  • 【被引频次】4
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