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多弧离子镀TiN和(TiZrCr)N膜中宏观颗粒的SEM分析
【摘要】 宏观颗粒是阻碍电弧离子镀广泛应用的障碍。它们镶嵌在膜层中,或散布在膜层表面。引起薄膜微区成分和结构的突变,对于工具镀来讲不一定有害,而对于高档模具和装饰来讲无疑是有害的。由于真空电弧阴极斑点局部温度高达8000～40000K,阴极表面的微小熔池产生喷射,最终形成这些宏观颗粒。许多方法用来减少和消除真空电弧离子镀中的大颗粒。本文比较了在直流偏压、直流迭加脉冲偏压和磁场过滤电弧作用下的宏观颗粒特点。实验方法用4弧源真空电弧离子镀设备进行TiN膜的沉积,用Zr、Cr、Ti靶进行(ZrCrTi)N复合膜的共沉积。工艺条件为:电弧电流80A,氮气分压0.6Pa,偏压-150V,时间30min。基材为镜面
- 【文献出处】 电子显微学报 ,JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY , 编辑部邮箱 ,2000年04期
- 【分类号】TG174
- 【被引频次】7
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