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硅基多孔氧化铝薄膜微结构的TEM研究

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【机构】南京大学现代分析中心!南京210093濮林；南京大学物理系固体微结构国家实验室!南京210093；南京大学物理系固体微结构国家实验室!；

【摘要】阳极氧化多孔氧化铝薄膜(anodicporousaluminafilm,APA)作为模板的应用已引起广泛关注。它的优点在于其主要的特征参数如孔径(1～300nm)、孔长(10～3000nm)及孔密度(108～1011cm-2)都可以用选择不同腐蚀电压的方法来加以控制,孔的长度直径比可达1000以上[1],而且在理想的APA膜中,孔阵列规则排列为蜂巢状六方结构[2]。这一特点为大面积原位合成规则排列纳米量子点/线材料提供了重要保证。考虑到和当前主流硅集成半导体工业相匹配,硅基多孔氧化铝薄膜(Si-basedanodicporousaluminafilm,APA/Si)的应用已见报道[3,4]。我更多还原

【关键词】氧化铝薄膜； TEM研究；微结构；阳极氧化；蒸镀；多孔氧化铝； HRTEM；量子点；纳米材料；硅衬底；

【基金】国家自然科学基金资助项目! (5 9832 10 0 );攀登计划资助项目

【文献出处】电子显微学报 ,JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY , 编辑部邮箱 ,2000年04期

【分类号】O484
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