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纳米二氧化硅粉体的制备

Preparation of silicon oxide nanoparticle.

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【作者】 刘立泉何永张崇李大成

【Author】 LIU Li quan, HE Yong, ZHANG Chong, LI Da cheng (Chengdu Shudu Electronic Powder Material Factory, Chengdu Sichuan 610063)

【机构】 成都蜀都电子粉体材料厂!四川成都610063

【摘要】 以工业硅酸钠和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅。工艺条件为 :温度 2 5~ 35℃、p H值 4~ 6、反应液质量浓度 1.15 g/ L、反应时间 10 min,添加一定量表面活性剂和分散剂。制得的二氧化硅 ,粒径 40~ 5 0 nm、比表面积大、分散性好、质量优良 ,已用于工业生产。

【Abstract】 Silicon oxide nanoparticle are prepared by chemical precipitation process, with sodium metasilicate and hydrochloric acid as raw material. The optimum conditions are 25~35℃, pH value 4~6, specific gravity of reaction liquid 1 15 g/L, reaction time 10 min, with some surfactant and dispersing agent. Higher specific surface area and purity and particle size of 40~50 nm are acquired. (7 refs.)

【关键词】 二氧化硅纳米材料粉体制备
【Key words】 silicon oxidenanoparticlepowder preparation
  • 【文献出处】 电子元件与材料 ,Electronic Components $ Materials , 编辑部邮箱 ,2000年04期
  • 【分类号】TB44
  • 【被引频次】34
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