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YBCO超导薄膜的等离子体氟化研究
A STUDY OF INFLUENCE OF PLASMA FLUORINATION ON YBCO THIN FILM
【摘要】 本文利用CF4 气体 ,对YBCO薄膜表面进行可控的rf等离子体氟化处理 .AFM与XPS的分析结果表明 :适当的氟化所起的作用主要为化学反应作用 .氟化可造成Y( 3d)与O( 1s)诸元素的本征峰相对强度减少 ,甚至消失 ;对Ba( 3d) ,Ba( 4d)和其它元素也有影响 .本文的研究为利用等离子体氟化YBCO膜形成弱化势垒层提供了初步结果 .
【Abstract】 The effects of RF plasma fluorination on surface of the YBCO thin film were studied by means of X ray photoelectron spectra (XPS). The XPS results indicate that the binding energy peaks of O(1 s ),Y(3 d ) of YBCO samples have obvious changes. In this letter, the changes of morphology and room temperature resistance of YBCO thin film were also given under plasma fluorination.
【基金】 国家重点基础研究专项!(G19990 6 46 );国家科委863(86 3 CD0 70 2 0 2 )项目
- 【文献出处】 低温物理学报 ,Chinese Journal of Low Temperature Physics , 编辑部邮箱 ,2000年06期
- 【分类号】O511
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