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用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积表面处理新工艺

A New Technology of Vaporized Deposit Process (VDP) forthe Coating of Soft Ferrite Cores

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【作者】 何水校

【Author】 HE Shui-xiaoSouthwest Institute of Applied Magnetics,Mianyang 621000,China

【机构】 中国西南应用磁学研究所!四川绵阳621000

【摘要】 报道了一种用于软磁铁氧体磁芯的气相沉积 (VDP)新工艺 ,简要介绍了VDP的工艺过程和工艺特点 ,并对这一新工艺的优点和存在的问题作了初步分析。VDP工艺同样可用于NdFeB等稀土永磁元件的表面处理。

【Abstract】 Vaporized Deposit Process(VDP), a new technology for the coating of sofl ferrite cores, is reported in the present paper. A brief introduction is given to the process technology and features of VDP, and a preliminary analysis is made on the advantages and problems of VDP. This new process can also be applied to the surface treatment of rare earth permanent NdFeB, etc.

  • 【文献出处】 磁性材料及器件 ,JOURNAL OF MAGNETIC MATERIALS AND DEUICES , 编辑部邮箱 ,2000年04期
  • 【分类号】TF125.8
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】111
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