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多晶硅超薄沟道薄膜晶体管研制(英文)  
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【英文篇名】 A Novel Ultra-Thin Channel Poly-Si TFT Technology
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【作者】 张盛东; 韩汝琦; 关旭东; 刘晓彦; 王阳元;
【英文作者】 ZHANG Sheng\|dong; HAN Ru\|qi; GUAN Xu\|dong; LIU Xiao\|yan and WANG Yang\|yuan(Institute of Microelectronics; Peking University; Beijing\ 100871; China);
【作者单位】 北京大学微电子学研究所;
【文献出处】 半导体学报 , CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS, 编辑部邮箱 2000年 04期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 薄膜晶体管; 多晶硅; kink效应; 超薄沟道;
【英文关键词】 TFT; poly\|silicon; kink\|effect; ultra\|thin channel;
【摘要】 提出了一种新结构的低温多晶硅薄膜晶体管 ( poly- Si TFT) .该 poly- Si TFT由一超薄的沟道区和厚的源漏区组成 .超薄沟道区可有效降低沟道内陷阱密度 ,而厚源漏区能保证良好的源漏接触和低的寄生电阻 .沟道区和源漏区通过一低掺杂的交叠区相连接 .该交叠区使得在较高偏置时 ,靠近漏端的沟道区电力线能充分发散 ,导致电场峰值显著降低 .模拟结果显示该TFT漏电场峰值仅是常规 TFT的一半 .实验结果表明该 TFT能获得好的电流饱和特性和高的击穿电压 .而且 ,与常规器件相比 ,该 TFT的通态电流增加了两倍 ,而最小关态电流减少了3.5倍 .
【英文摘要】 A novel low temperature poly\|Si(LTPS) ultra\|thin channel thin film transistor (UTC\|TFT) technology is proposed. The UTC\|TFT has an ultra\|thin channel region (30nm) and a thick drain/source region (300nm). The ultra\|thin channel region that can result in a lower grain\|boundary trap density in the channel is connected to the heavily\|doped thick drain/source region through a lightly\|doped overlapped region. The overlapped lightly\|doped region provides an effective way for the electric field to spread...
【分类号】 TN321.5
【正文快照】 1  IntroductionAs well known to us,low temperature poly-Si(LTPS) TFT has much highereffectivecarrier mobility than amorphous silicon TFT (a-Si TFT) [1— 3] . So,LTPSTFT is expectedto be one of the most promising technologies of building fully-integrated

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