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半绝缘InP的优化生长条件以及掩埋的1.55μm激光器

Fe Doped Semi-Insulating InP Buried 1.55μm MQW InGaAsP Laser Diode

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【作者】 许国阳颜学进朱洪亮段俐宏周帆田慧良白云霞王圩

【Author】 XU Guo\|yang, YAN Xue\|jin, ZHU Hong\|liang, DUAN Li\|hong, ZHOU Fan, TIAN Hui\|liang, BAI Yun\|xia and WANG Wei(National Research Center for Optoelectronic Technology, Institute of Semiconductors, CAS, Beijing\ 100083, China)Received 21 October 1998, r

【机构】 中国科学院半导体研究所国家光电子工艺研究中心!北京100083中国科学院半导体研究所国家光电?

【摘要】 研究了低压MOCVD下生长压力和Fe 源/In 源摩尔流量比对半绝缘InP电阻率的影响.得到了用LP-MOCVD 生长掺Fe 半绝缘InP的优化生长条件.在优化生长条件下得到的Fe-InP的电阻率为2.0×108Ω·cm ,击穿电场4×104V/cm .用半绝缘Fe-InP掩埋1.55μm 多量子阱激光器,激光器的高频调制特性明显优于反向pn 结掩埋的激光器,3dB 调制带宽达4.8GHz.

【Abstract】 Fe doped semi\|insulating InP was grown by LP\|MOCVD under different conditions. An optimized growth condition has been obtained after comparing the resistivity of Fe doped semi\|insulating InP of different growth condition. Fe doped semi\|insulating InP with resistivity 2 0×10 8Ω·cm and breakdown field strength 4×10 4V/cm was obtained. The 3dB bandwidth of 1 55μm InGaAsP MQW laser diode buried by Fe doped semi\|insulating InP, was measured to be 4 8GHz.

【关键词】 激光器InP优化生长
【Key words】 LaserInPOptimized Growth
【基金】 国家“863”高技术计划资助
  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,2000年02期
  • 【分类号】TN241
  • 【下载频次】83
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