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硅基多孔U-SiC薄膜的电致发光及其机理分析

Electroluminescence From Silicon Based Porous β-SiC Film and Its Mechanism

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【作者】 吴晓华鲍希茂李宁生廖良生郑祥钦

【Author】 WU Xiao-hua, BAO Xi-mao, LI Ning\|sheng, LIAO Liang-sheng and ZHENG Xiang-qin(Department of Physics and National Laboratory of Solid State Microstructure, Nanjing University, Nanjing\ 210093, China)Received 11 December 1998, revised manuscript receive

【机构】 南京大学物理系和固体微结构国家重点实验室!南京210093南京大学物理系和固体微结构国家重点实验室!南京21

【摘要】 单晶硅中注入高剂量的C+ 离子,注入能量为50keV,经高温退火后形成β-SiC沉淀,再经电化学腐蚀形成多孔β-SiC,样品表面蒸上一层半透明的金膜,在正向偏压高于25V 时,可以获得波长约为447nm 的蓝光发射, 而且该蓝光发射随着电压的升高而增强.文中还将多孔β-SiC薄膜的电致发光和其光致发光进行了比较,并讨论了其发光机理

【Abstract】 High dose of C\++ ions are implanted into crystal silicon wafers at an energy of 50keV. A continuous β \|SiC layer is formed after thermal annealing. Conventional anodization technique is used to turn this layer into a porous \%β\%\|SiC layer. A semitransparent gold film is selectively evaporated on the surface of the sample to form the top contact. Electroluminescence (EL) measurement is performed on the samples. When the applied voltage is higher than 25 V, blue (~447 nm) EL can be obtained. The EL mechanism is discussed.

【关键词】 SiC薄膜电致发光发光机理
【Key words】 SiC Thin FilmElectroluminescenceEL Mechanism
【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,2000年02期
  • 【分类号】TN304.055
  • 【被引频次】26
  • 【下载频次】115
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