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用调制光谱研究半导体体材料及微结构的非线性极化率

Measurement of Nonlinear Susceptibility for Semiconductor Microstructures by Modulation Spectroscopy\+*

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【作者】 王若桢田强江德生

【Author】 WANG Ruo\|zhen and TIAN Qiang(Department of Physics, Beijing Normal Univesity, Beijing\ 100875, China) JIANG De\|sheng(National Laboratory for Superlattices and Microstructures, Institute of Semiconductors, The Chinese Academy of Science, Beijing\ 10

【机构】 北京师范大学物理系!北京100875中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室!北京100083

【摘要】 提出了用调制光谱信号强度表征半导体体材料及微结构的非线性极化率,研究了测量的原理和方法.对玻璃中量子点电反射调制光谱信号强度随团簇颗粒尺寸的不同而产生几个数量级变化的原因作出了解释

【Abstract】 It is proposed to use the signal intensity of modulation spectra for characterizing the nonlinear susceptibility of bulk semiconductor materials and microstructures.The principle and method of measurement are investigated.The large difference,as high as several orders of magnitude,between the signal intensities of electroreflectance spectra of quantum dots in doped glass with different cluster size is discussed.

【基金】 国家自然科学基金
  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,2000年01期
  • 【分类号】TN304.01
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