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真空电弧沉积技术中的弧源设计

Arc Source Design in Vacuum Arc Deposition

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【作者】 程仲元王珉

【Author】 Cheng Zhongyuan,Wang Min(Mechanical Engineering Institute,Nanjing University of Aeronautics and Astronautics,Nanjing,210016)

【机构】 南京航空航天大学机电工程学院!南京210016

【摘要】 讨论了真空电弧沉积中弧源设计的有关问题 ,如电弧运行模式、电弧极性、点火方式、电弧的约束方式以及宏观粒子抑制方式等。分析表明 ,合理选择电弧运行模式和电弧极性 ,以满足涂料粒子蒸发与离化的要求 ;选择合适的弧源结构 ,加强对电弧的约束与烧蚀的控制 ,或用过滤弧源 ,以抑制宏观粒子对涂层的污染 ,是成功设计弧源的关键

【Abstract】 Several technical problems in arc source design,including arc mode,arc polarity,ignition mechanism and arc confinement and macroparticle reduction were discussed.Successful design of a high quality arc source depends on a number of factors.For instance,arc mode and arc polarity strongly affect evaporation and ionization of the coating particles;appropriate arc source structures may considerable enhance arc tract control and reduce erosion;incorporation of a macroparticle filter may effectively lessen macroparticle contamination of the coating.

【关键词】 真空电弧沉积弧源
【Key words】 Vacuum arcDepositionArc source
  • 【分类号】TN105
  • 【被引频次】7
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