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CVD金刚石薄膜的界面能量分析

Interfaial Energy Analysis of CVD Diamond Films

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【作者】 唐璧玉； 靳九成； 陈宗璋；

【Author】 Tang Biyu (Department of Physics,Xiangtan University,Xiangtan,411105,China) Jing Jiucheng Chen Zhongzhang (Hunan University,Changsha,410082,China)

【机构】 湘潭大学物理系!湘潭411105； 湖南大学!长沙；

【摘要】 分析了CVD金刚石薄膜的界面能量情况,并由此研究了金刚石成核几率、晶核取向、附着强度与基底材料结构和性能的关系

【Abstract】 Interfacial energy during CVD diamond films was analysed. The relationship of diamond nucleation probability, nucleus orientations and film adhesion with structure ad properties was investigated.

【关键词】 CVD金刚石； 成核几率； 晶核取向； 附着强度； 基底材料；
【Key words】 CVD diamond； nucleation probability； nucleus orientation； adhesion strength； substrate materials；
  • 【文献出处】 湘潭大学自然科学学报 ,NATURAL SCIENCE JOURNAL OF XIANGTAN UNIVERSITY , 编辑部邮箱 ,1999年04期
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】82
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