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高速集成电路接口技术的发展

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【作者】 皇甫伟；

【机构】 清华大学电子工程系!北京； 100084；

【关键词】 接口技术； 逻辑摆幅； 深亚微米工艺； 工作速率； 电源电压； OEIC； 电路形式； 差分信号； 截止状态； 外围接口；
  • 【文献出处】 微电子技术 ,MICROELECTRONIC TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1999年01期
  • 【分类号】TN403
  • 【下载频次】91
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