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TiN/AlN 纳米混合膜的微结构及力学性能

Microstructure and Mechanical Properties of TiN/AlN Nano Granular Thin Films

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【作者】 李戈扬施晓蓉辛挺辉吴亮李鹏兴

【Author】 Li Geyang, Shi Xiaorong, Xin Tinghui, Wu Liang, Li Pengxing State Key Lab. of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiaotong University, China

【机构】 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

【摘要】 通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了TiN/AlN纳米混合膜.采用XRD衍射、TEM和显微硬度等测试方法对TiN/AlN纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究.结果表明,TiN/AlN纳米混合膜的晶粒大小为10~20nm;薄膜总体表现出硬度增强效果,在TiN∶AlN(体积比)≈1∶1时,薄膜硬度获得极大值HK32.25GPa.

【Abstract】 This paper researched TiN/AlN nano granular thin films, whose microstructure and hardness were detected by X ray diffraction, transmission electron microscopy and indentor respectively. The TiN/AlN nano granular thin films were prepared by rotating the substrates at speed of 20 r/min and the composition of them can be controlled by modifying the targets power. In the TiN/AlN nano granular thin films, the grain size is about 10~20 nm. The enhanced hardness reaches the maximum HK32.25GPa when TiN∶AlN≈1∶1.

【关键词】 纳米薄膜磁控溅射硬度
【Key words】 nano granular thin filmsmagnetron sputteringhardness
  • 【文献出处】 上海交通大学学报 ,JOURNAL OF SHANGHAI JIAOTONG UNIVERSITY , 编辑部邮箱 ,1999年02期
  • 【分类号】O484.2,O484.1
  • 【被引频次】12
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