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PolarVeri——甚大规模集成电路版图验证工具包

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【作者】 朱胥； 魏文静；

【机构】 中国华大集成电路设计中心； 中国华大集成电路设计中心；

【摘要】 <正> 一.引言 在亚微米、深亚微米工艺下,芯片集成度越来越高。目前单片集成几百万、上千万晶体管已不罕见。集成电路发展到甚大规模,对版图验证工具提出了新的要求。原有的版图验证工具在验证速度、精度等方面已显得力不从心,而且对于存储资源的要求也远远超出了实际可能。

【关键词】 版图设计； PolarVeri； 验证工具； 深亚微米工艺； 网表； 图形化用户界面； 芯片集成度； 单片集成； 垂直分割线； 跟踪过程；
  • 【文献出处】 世界电子元器件 ,Global Electronics China , 编辑部邮箱 ,1999年04期
  • 【分类号】TN402
  • 【下载频次】27
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