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铜蒸气激光器等离子体阻抗动态特性研究

STUDY ON THE DYNAMIC PLASMA RESISTANCE CHARACTERISTICS IN COPPER VAPOR LASER

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【作者】 于德利陶永祥尹宪华王润文陈林杨燕李海兰

【Author】 YU Deli, TAO Yongxiang, YIN Xianhua, WANG Runwen, CHEN Lin, YANG Yan, and LI Hailan Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Academia Sinica, P. O. Box 800 211, Shanghai 201800, China

【机构】 中国科学院上海光机所

【摘要】 给出了铜蒸气激光器放电电路各参数的表达式及取值。与铜蒸气激光器动力学模型相结合,讨论了铜蒸气激光器动力学过程中由于放电管内等离子体参数的变化引起等离子体阻抗动态演变过程,并与采用固定等离子体参数的等离子体阻抗进行了比较。

【Abstract】 The expressions or values of discharge circle parameters for copper vapor laser are presented. Combined with the copper vapor laser kinetic model, the plasma resistance characteristics have been studied as the plasma parameters in the discharge tube changing, and they are compared with the plasma resistance characteristics deduced from the static plasma parameters in discharge tube.

【基金】 国家科委“九五”攻关项目
  • 【文献出处】 强激光与粒子束 ,HIGH POWER LASER & PARTICLE BEAMS , 编辑部邮箱 ,1999年03期
  • 【分类号】TN248.21
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】31
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