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离子束刻蚀正交位相型Ronchi光栅研究

Fabrication of Orthogonal Phase Ronchi Grating by Ion Beam Etching

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【Author】 Bi Xiaochuan;Sun Guanyu;Sun Jun;Hong Yining Xu Xiangdong;Huo Tonglin;Fu Shaojun;Zhang Xinyi (National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China Hefei 230026)

【机构】中国科学技术大学国家同步辐射实验室!合肥； 230026；中国科学技术大学国家；

【摘要】本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作正交位相型Ronchi光栅的工艺技术，并讨论其衍射效率，给出公式及实验结果．更多还原

【Abstract】 An orthogonal phase Ronchi grating was fabricated by ultraviolet lithographing and ion beam etching. The experimental results of this grating with wavelength of 632.8 nm are given, and the diffraction characteristics of the Ronchi grating are discussed.更多还原

【关键词】位相型Ronchi光栅；离子束刻蚀；
【Key words】 phase Ronchi grating； ion-beam etching；

【文献出处】量子电子学报 ,CHINESE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS , 编辑部邮箱 ,1999年04期

【分类号】TH74
【被引频次】8
【下载频次】146

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