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用Z扫描法测量a-Si/SiO2多量子阱材料非线性折射率

Measurement of the Nonlinearities of a Si/SiO2 MQW with Z scan Method

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【作者】 周赢武郭亨群成步文

【Author】 Zhou Yingwu Guo Hengqun Cheng Buwen 1 (National Hua Qiao University,Quanzhou 362011) 1 (State Key Laboratory for Superlattice and Microstructures,Institute of Semiconductors,Academia Sinica,Beijing 100083)

【机构】 国立华侨大学!泉州362011中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室!北京100083

【摘要】 利用Z扫描法和波长为0.53 μm 、脉宽为10 ns的调Q-Nd∶YAG激光器测量了a-Si/SiO2 多量子阱材料的三阶非线性折射率。并对该材料光学非线性的产生机理作了探讨

【Abstract】 The third order nonlinerities of a Si/SiO 2 MQW were studied by Z scan technique with 10 ns,0.5 μm pulses from a Q switched Nd∶YAG laser.The experimental results that nonlinear refractivity of a Si/SiO 2 MQW is 1.513×10 -15 (m 2/W).The nonlinear machanism of the material were discussed in terms of the quantum confined effect.

【关键词】 Z扫描a-Si/SiO2多量子阱光学非线性
【Key words】 Z scana Si/SiO2 MQWoptical nonlinearity
【基金】 国家自然科学重大基金
  • 【文献出处】 光电子·激光 ,Journal of Optoelectronics.laser , 编辑部邮箱 ,1999年05期
  • 【分类号】O472.3
  • 【被引频次】4
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