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面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作

The Silicon Microlens Arrays Fabricated by Ion Beam Etching for IR CCD FPA Device

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【作者】 张新宇易新建何苗赵兴荣

【Author】 Zhang Xinyu,Yi Xinjian,He Miao,Zhao Xingrong (Dept.of optoelectronic Engineering,Huazhong University of Science & Technology Wuhan 430074)

【机构】 华中理工大学光电子工程系

【摘要】 采用氩离子束刻蚀制作与一种128×128元PtSiIRCCD摄像芯片匹配的单片硅折射微透镜阵列.所制成的微小光学阵列元件的填充系数高于95%,每单元硅折射微透镜为矩底拱面形,其近轴光(3~5μm光谱波段)的焦距约为80μm,给出了硅折射微透镜阵列的表面探针和扫描电子显微镜测试结果

【Abstract】 The Silicon refractive microlens arrays coupled with a large area PtSi IRCCD of 128×128 is fabricated by photolithographys and Ar ion beam etching.The filling factor of the micro optics components fabricated is more than 95%.The focal length of the rectangular arch microlens is about 80μm.The microstructure of the Si microlens arrays is analyzed by the scanning electron microscope and the surface style measurement.

【基金】 国家863高科技发展计划资助
  • 【文献出处】 电子学报 ,ACTA ELECTRONICA SINICA , 编辑部邮箱 ,1999年08期
  • 【被引频次】2
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