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用MOCVD在ZnO/Al_2O_3衬底上生长GaN及其特性  
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【英文篇名】 Growth of GaN Single Crystal Film on ZnO/Al\-2O\-3 Substrate and Its Characteristics
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【作者】 毛祥军; 杨志坚; 李景; 屈建勤; 张国义;
【英文作者】 Mao Xiangjun; Yang Zhijian; Li Jing; Qu Jianqin; Zhang Guoyi(Physics Department; Peking University; Beijing\ 100871) Ye Zhizhen; Li Jianguang; Wang Lei; Zhao Binhui(State Key Laboratory of Silicon Materials; Zhejiang University; Hangzhou\ 310027)Receive;
【作者单位】 北京大学物理系;
【文献出处】 半导体学报 , CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS, 编辑部邮箱 1999年 08期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【摘要】 本文报道利用直流反应磁控溅射技术在 Al2 O3 上生长一层 Zn O,再用 L P M O C V D 在 Zn O/ Al2 O3 衬底上生长 Ga N.实验发现低温生长 Ca N 过渡层有利于晶体质量的提高; P L 谱主峰红移到蓝光区;二次离子质谱仪( S I M S)测量发现有 Zn 扩散到 Ga N 外延层, Zn 的扩散引起光致发光谱主峰移动.估算出在 1050℃ Zn 在 Ga N 中扩散系数是 86×10- 14 cm 2 /s.
【英文摘要】 It is reported that GaN was grown on ZnO/Al\-2O\-3 substrate by LP\|MOCVD,and its characteristics were studied.The experimental results show that the GaN buffer is necessary for improving the quality of GaN epitaxial layer.The main photoluminescence peak of GaN epitaxial layer moves to blue spectrum,which has been confirmed that diffusing of Zn in ZnO layer into GaN is responsible.The diffusion coefficient of Zn in GaN at 1050℃ is valued as 8 6×10 -14 cm\+2/s.
【基金】 国家自然科学基金
【正文快照】 PACC:78551 引言以GaN为基本材料的Ⅲ族氮化物是最重要的宽带隙半导体材料体系之一,它们特有的带隙范围,优良的光、电性质和优异的材料机械性质使其在光发射二极管(LED)、激光器(LD)、高温大功率电子器件、表面声波器件、负电子亲和性器件等领域都有?

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