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大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率

Enhancem entof the Exposure Rate of EM-5009B

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【作者】 田振文； 刘贵增； 王维军；

【Author】 Tian Zhenw en, Liu Guizeng, Wang Weijun(The 13th Institute (Electronics), Shijiazhuang 050051)

【机构】 电子十三所!石家庄050051；

【摘要】 根据ЭМ－５００９Б激光图形发生器的工件台运动方式， 介绍一种大幅度提高该设备曝光速率的方法

【Abstract】 This paper introduces a m ethod thateffectively prom ots the exposure rate ofEM-5009Blaser pattern generatoraccording to the stage m ovem entm ode.

【关键词】 激光图形发生器； 曝光速率；
【Key words】 Laser pattern gene；
  • 【文献出处】 半导体情报 ,SEMICONDUCTOR INFORMATION , 编辑部邮箱 ,1999年05期
  • 【分类号】TN305.7
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