浅析不同分散剂对稀土抛光浆料分散及抛光性能的影响

【作者】 胡群； 陈传东； 张忠义； 范娜； 李晓佩； 岳帅军； 赵思远； 刘杨； 崔燕英；

【机构】 包头稀土研究院； 中国科学院赣江创新研究院；

【摘要】 化学机械抛光（Chemical mechanical polishing,简称CMP）过程中抛光液的性能对抛光物件表面质量具有较大影响。抛光液主要由磨料、PH值调节剂、分散剂、螯合剂和悬浮剂等组成,由于稀土抛光磨料CeO₂颗粒在制备过程中,需要经过高温焙烧环节,故造成颗粒间易发生团聚,尽而影响抛光质量。因此,为了改善抛光性能,在抛光液的配方设计阶段,需要加入不同的分散剂来调控抛光液的分散性能,从而提高抛光质量。本文着重讨论了不同分散剂对粉体的作用机制,通过Zeta电位、SEM、粒度等表征手段深入探讨了分散剂对抛光浆料的分散、粒度及抛光等性能的影响。同时,还研究了Zeta电位表征粉体分散性能的测试方法,结果表明:加入分散剂后,抛光浆料的等电点（IEP）发生移动,Zeta电位的绝对值明显提高,在所研究的几种分散剂中,柠檬酸钠对抛光浆料影响较为显著,抛光速率得到提高,SEM显示,CeO₂颗粒间的分散性明显改善,为下游用户在抛光液的配置及分散剂的选择提供参考。更多还原