钐掺杂纳米氧化铈的合成及其性能研究

【作者】 张忠义； 刘建军； 陈传东； 范娜； 于建飞； 胡群； 赵思远； 岳帅军； 刘扬；

【机构】 包头稀土研究院；

【摘要】 氧化铈基抛光液已经广泛应用于玻璃和光学镜头的抛光[1,2],近年来由于半导体集成电路的高速发展,氧化铈抛光液也被广泛应用于半导体集成电路浅沟槽STI(shallow trench isolation)、内部介电质层ILD(interlayer dielectrics)以及液晶显示(LCD)[3-5]。特别是半导体集成电路浅沟槽STI(shallow trench isolation)的抛光,需要选择氧化铈抛光液来完成,这是因为氧化铈抛光液具有高的抛光选择性,即对二氧化硅的抛光速率要比氮化硅快。应用于本领域的氧化铈抛光液中的氧化铈,不仅需要具有一定的中心粒径、粒度分布、形貌结构等要求外,氧化铈的价态也是一个较为关键的因素。因此本文通过共沉淀法合成钐掺杂复合纳米氧化铈抛光材料,使所合成的材料具有较小的粒径(中心粒径96纳米)、同时钐的掺杂可以改善材料的悬浮性能(Zeta电位值为:-40mV)以及获得较高的三价铈离子含量(增加17.6%)。更多还原