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铈基材料制备及其在抛光领域中的应用
【机构】 包头稀土研究院；
【摘要】 高品质氧化铈纳米颗粒因其具有独特的4f电子层结构、相对优良的性能和低廉的价格而在精细研磨抛光、催化、紫外吸收等领域得以广泛应用。化学机械抛光(CMP)是一种全局平面化技术,除了盖板、光学等领域的玻璃抛光外,氧化铈颗粒在逻辑和存储芯片的浅槽隔离(STI)、层间介质(ILD)和氧化物覆盖层的抛光浆料中也起着关键作用。本文主要综述了铈基材料的制备及其最近研究进展,同时阐述了其在抛光领域的应用。
- 【会议录名称】 中国稀土学会2021学术年会论文摘要集
- 【会议名称】中国稀土学会2021学术年会
- 【会议时间】2021-10-22
- 【会议地点】中国四川成都
- 【分类号】TQ133.3;TB383.1
- 【主办单位】中国稀土学会