基片偏压对TiAl合金薄膜的微结构演变和红外反射率的影响

【作者】 张敏； 赵双； 索妮； 王菲菲；

【机构】 辽宁师范大学物理与电子技术学院；

【摘要】 金属薄膜由于具有良好的红外反射性能而被广泛应用于太阳选择吸收薄膜叠层。本文利用电弧离子镀和磁控溅射的复合薄膜沉积系统在玻璃和p-(100)单晶硅基片上制备了TiAl合金薄膜。在基片上施加0—-200V的偏压以考察其对所沉积TiAl合金薄膜微结构演变和红外反射性能的影响。利用XRD、SEM、AFM和傅里叶变换红外光谱以表征薄膜的相结构、表面形貌、微观结构和红外反射率。XRD图谱表明,所沉积TiAl合金薄膜以体心立方结构结晶,随着偏压由0V增加到-200V其择优取向由(111)变为(200)。从横断面SEM观察可以看出,当基片偏压增大时,薄膜微结构由明显的柱状结构转变为等轴晶,由AFM获得的RMS粗糙度减小。基片偏压为-50V时制备的TiAl合金薄膜的红外反射率最高,约89%。更多还原