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镶嵌在SiC中纳米硅薄膜的电致发光行为

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【作者】 芮云军李淑鑫徐骏曹蕴清李伟陈坤基

【机构】 南京大学电子科学与工程学院固体微结构国家重点实验室南京工业大学理学院应用物理系

【摘要】 <正>近年来,镶嵌在碳化硅(SiC)中的纳米硅薄膜越来越受到研究者的关注,因为其在硅基光电器件,特别是硅基发光器件和太阳能电池等方面有很大的应用前景。SiC与二氧化硅相比较具有较低的光学带隙,且带隙随着Si、C组分的不同而变化。所以镶嵌在SiC中的纳米硅具有较低的势垒高度,电注入载流子的效率较高,有利于硅基光电器件性能的提高。

【基金】 国家自然科学基金(61036001);江苏省自然科学基金(BK2010010);中央高校基本科研业务费专项资金(1112021001)资助
  • 【会议录名称】 TFC’11全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
  • 【会议名称】TFC’11全国薄膜技术学术研讨会
  • 【会议时间】2011-08-25
  • 【会议地点】中国江西南昌
  • 【分类号】TB383.2;TN383.1
  • 【主办单位】中国真空学会薄膜专业委员会
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