诱导磁场对化学沉积Co-Ni-P薄膜磁性能的影响

【作者】 王海成； 龚占双； 王立锦； 于广华；

【机构】 北京科技大学材料科学与工程学院；

【摘要】 化学湿法沉积是制备Co基合金薄膜的一种快速有效的方法,提高化学沉积Co基磁性薄膜的性能对其在高性能传感器领域中的应用有着重要意义。常规化学湿法沉积过程中,晶粒是随即取向的,磁性薄膜材料的各向异性能较小。作为应用于传感器中的磁记录介质,则需要有较高的矩形比和矫顽力。本文采用化学湿法沉积技术制备了CoNiP磁性薄膜,在化学沉积过程中施加了诱导磁场,研究了诱导磁场对CoNiP薄膜磁性能的影响。实验结果表明,随着施加的磁场强度的增加,CoNiP薄膜的矫顽力先增加,然后减小;当磁场强度为1300 Oe时,薄膜的矫顽力达到了751.7 Oe,比未施加磁场时提高了约28%。X射线衍射结果表明,Co-Ni-P薄膜晶粒沿磁场方向生长,其c轴沿薄膜的轴向形成了很强的Co (002)织构。扫描电子显微镜表面形貌观察表明,随着磁场强度的增加,胞状颗粒逐渐增多,晶粒尺寸变小,颗粒之间结合紧密。更多还原