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铀表面激光N掺杂改性层微观结构及耐氧化机制研究

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【作者】 钟火平胡殷潘启发张永彬罗丽珠李芳芳肖红李海波吴艳萍陈志磊王晓方刘柯钊

【机构】 表面物理与化学重点实验室中国工程物理研究院材料研究所

【摘要】 在N2氛围下,利用脉冲激光在铀表面制备了N掺杂改性层,以降低金属铀的表面活性,实现提高其耐腐蚀的目的。分别利用X射线衍射(XRD)、俄歇电子谱(AES)、X射线光电子谱(XPS)对激光N掺杂改性层的结构和化学组成进行了表征。结果显示改性层具有复合结构,在改性层表面主要化学物质为UO2,在改性层的浅表层(厚度约50 nm范围内的富O区)分布着UO2-x Ny和UNx Oy以及少量的UN,随着深度增加改性层中主要分布UN,并出现少量金属U。为了研究改性层的耐氧化机制,利用XPS分别对溅射7分钟(富O区,主要成分为UO2-x Ny和UNx Oy),80分钟(主要成分为UN及少量金属U)的表面进行了在不同O2暴露剂量条件下的初始(原位)氧化行为研究。初始氧化实验结果发现U 4f7/2结合能位于379.6 eV对应的UNx Oy在暴露O2条件下(常温)是惰性的,具有良好的耐氧化性能,总体来说金属U、NaCl结构的UN、UNx Oy耐氧化性能依次增强。另外,在温度为423 K,真空度为10-5 Pa条件下氧化24小时,实验结果显示激光N掺杂改性层具有很好的稳定性和优异的阻止O透过改性层向内部扩散的能力。真空热氧化前后的N掺杂改性层具有较好的耐电化学腐蚀性能,其自腐蚀电位和自腐蚀电流分别为-5.75×10-2 V vs.SCE,1.37×10-7 A/cm2和-8.57×10-2 Vvs.SCE,4.83×10-8 A/cm2,而金属的相应值分别为-5.67×10-1 V vs.SCE,8.08×10-7 A/cm2,N掺杂改性处理后的样品经真空热处理后其自腐蚀电流进一步下降,原因可能为真空热处理过程中改性层中残余的少量金属U减少以及微观缺陷减少引起的。总体上,对金属U表面进行N掺杂改性处理后,其耐腐蚀性能有明显改善。

  • 【会议录名称】 第十届全国腐蚀大会摘要集
  • 【会议名称】第十届全国腐蚀大会
  • 【会议时间】2019-10-24
  • 【会议地点】中国江西南昌
  • 【分类号】TG174.4;TG665
  • 【主办单位】中国工程院、中国腐蚀与防护学会
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