丙二烯与卤化氢亲电加成反应的分子形貌理论研究

【作者】 巩锐； 杨忠志；

【机构】 辽宁师范大学化学化工学院；

【摘要】 本文应用分子形貌理论,在MP2/6-311+G（3df,2p）理论水平下,研究了丙二烯与HX（X=F,Cl）分子亲电加成反应的动态变化过程,探讨了沿着IRC路径上的一些固定点分子形貌的特征以及反应过程中的活化能和络合能。使用MELD精密从头计算方法中的CISD/6-311+G（3df,2p）方法,计算了反应过程中各固定点的单电子作用势、特征化学键的D_pb、分子轮廓的特征边界距离以及相应界面上的电子密度,并绘制出各固定点的分子形貌,生动形象地展示了这类反应中分子形貌的动态变化以及电子转移的过程。根据沿着IRC路径上特征化学键的D_pb变化曲线,推断出反应过程中化学键形成和断裂的可能方式,预测了亲电加成反应的反应位点,该位点与实验中的反应位点基本一致,分子轮廓界面上的电子密度也发生相应的变化。研究表明,我们的模型能够很好地模拟出丙二烯与HX（X=F,Cl）分子发生亲电加成反应的动态过程,为进一步研究相关反应的机理奠定了理论基础。更多还原