POSS-MoS₂/PMMA复合材料的制备及其光限幅性能研究

【作者】 廖峭波； 邓国庆； 袭锴；

【机构】 南京大学化学化工学院；

【摘要】 纳米MoS₂作为一种新型的二维纳米材料,拥有优异的力学,电学和非线性光学性能,将其掺杂进聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）等聚合物基底中能够预期得到具有光限幅性能的复合材料。然而,未修饰的纳米MoS₂片层与聚合物基底的相互作用较差限制了其制备与应用。本文将苯基POSS修饰到纳米MoS₂的表面以提高纳米MoS₂的掺杂效果。TEM,FT-IR和XPS等的表征结果表明苯基POSS成功地修饰到了纳米MoS₂的表面。将苯基POSS修饰的纳米MoS₂与PMMA通过简便的溶液混合法进行复合。SEM测试表明苯基POSS修饰的纳米MoS₂在基底中分散均匀。从光限幅测试结果中可以看出,微量的功能化纳米MoS₂的加入即可赋予复合材料光限幅性能,其效果随着填料加入量的增多而加强。另外,动态热机械分析（DMA）和热重（TGA）的测试结果均表明,该功能化纳米MoS₂的加入还可以显著提高复合材料的热力学性能。更多还原